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                基板とケーブルが一体化しているため、接続用のコネクタが不要で狭いスペースにも採用できるので機器の小型化、軽量化、薄型化の実現が可能となります。

 
 
| ベース材(3層材・2層材) | |
|---|---|
| ポリイミドフィルム | 12.5μm(1/2mil) 25μm(1mil) 50μm(2mil) | 
| 電 解 銅 箔 | 9μm(1/4oz) 12μm(1/3oz) 17.5μm(1/2oz) 35μm(1oz) | 
| 圧 延 銅 箔 | |
| カバー材 | |
| ポリイミドフィルム | 12.5μm(1/2mil) 25μm(1mil) 50μm(2mil) | 
| カバーコート | フォトソルダーレジスト | 
| 表面処理 | |
| 防 錆 処 理 | 防錆処理 耐熱防錆処理 | 
| 半 田 処 理 | クリーム半田 | 
| メッキ処理 | 電解直金メッキ | 
| 電解ニッケル/金メッキ | |
| 無電解ニッケル/金メッキ | |
| ソフト金メッキ | |
| すずメッキ | |
| 半田メッキ(PBフリー) | |
| フラックス | |
| 補 強 材 | |
| 補強フィルム | ポリイミド ポリエステル | 
| 補 強 板 | ガラエポ ポリイミド | 
| 金属補強板 | アルミニウム SUS | 
| 製作可能層数 | |
| 層 数 | 3~10層 | 
